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PVD真空蒸發鍍膜的基本工藝流程

時間：2020-10-04    點擊數：

真空蒸發鍍膜的基本工藝流程：

鍍前準備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預熔→蒸發→取件→膜層表面處理→成品

真空蒸發鍍膜的特點：

優點：設備簡單易操作，制成的薄膜純度高、質量好，厚度可較準確控制，成膜速率快，效率高，薄膜生長機理比較簡單。

缺點：所形成的薄膜在基材上附著力較小，工藝重復性不夠好，不易獲得結晶結構的薄膜。


本文網址：http://www.lyfln.com/news/487.html

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