全國服務熱線
18913268389湯生
18913268389湯生
各種沉積手段的混合運用也是上海PVD技術(shù)的最新進展之一,經(jīng)過多種粒子源的組合運用,可以消除單一沉積手段的缺點,獲得良好的效果,如在離子鍍中,采用脈沖激光作為蒸發(fā)源,而后對蒸氣進行等離子體化,加上偏壓,這樣既可以提高沉積效率,又可以改善沉積粒子的活性,提高沉積能量。在蒸鍍中,采用熱絲電子發(fā)射,使蒸氣原子離化,就可以對基片加上偏壓,獲得具有轟擊效果的沉積膜層。
真空陰極電弧和磁控濺射技術(shù)組合沉積技術(shù),也是近年來實際應用到工業(yè)生產(chǎn)中的一種復合技術(shù)。等離子體的引入,可以同時對濺射中的原子進行離化;同時,濺射又可以輔助電弧沉積的穩(wěn)定性。
由于應用對象的不斷擴展,PVD處理的材料由原來的刀具等硬質(zhì)合金材料不斷向中低合金鋼、模縣鋼,乃至有色金屬等材料類型擴展。為保證PVD表面處理后被處理件整體的性能不下降,降低PVD處理溫度,在較低的溫度下獲得性能優(yōu)良的沉積層,已成為PVD技術(shù)研究的一個主要問題。
磁控濺射是PVD技術(shù)中低溫沉積最有效的方法。磁控濺射時,電子被暗場罩或?qū)iT附加的陽極吸收掉,得到基體的溫度比傳統(tǒng)濺射的要低,通過一些特殊的手段可以使基體的溫度降至接近室溫,可使塑料或其他溫度敏感材料作為基體進行沉積處理。1998年Teel Coating Ltd.提出了在低溫下采用磁控濺射沉積高質(zhì)量TiN、TiCN鍍層的技術(shù),基體溫度可降至低于70℃,從而擴大了類似鍍層可能應用的范圍。英國的Loughborough大學近年來成功地在室溫條件下使磁控濺射過程中的基體溫度從350~500℃降低到150℃左右,并成功地將TiN、CrN涂層用于人工牙齒模具表面和銅焊接觸頭表面,提高了其使用壽命5~10倍。可以看出,低溫沉積方法及工藝研究是非常有意義的,也是很有前途的。
189-1326-8389 在線咨詢
工藝定制 | 方案報價 | pvd咨詢CopyRight 2019 All Right Reserved 蘇州志天納米科技有限公司 蘇ICP備20032692號-1