真空鍍膜使用是鍍膜使用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及外表處理技能等眾多方面有著非常廣泛的使用。為了讓我們更具體的了解真空鍍膜的使用，今天小編具體為我們介紹真空鍍膜使用的首要幾種方法，期望對我們有用！

真空鍍膜使用，簡單地理解就是在真空環境下，使用蒸鍍、濺射以及隨后凝聚的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統鍍膜方法，真空鍍膜使用歸于一種干式鍍膜，它的首要方法包括以下幾種：

真空蒸鍍

其原理是在真空條件下，用蒸騰器加熱帶蒸騰物質，使其氣化或升華，蒸騰離子流直接射向基片，并在基片上堆積析出固態薄膜的技能。

濺射鍍膜

濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過慵懶氣氛堆積到基片上構成膜層。

離子鍍膜

即干式螺桿真空泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技能基礎上發展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，使用氣體放電使工作氣體或被蒸騰物質（膜材）部分離化，并在離子炮擊下，將蒸騰物或其反響物堆積在基片外表。在膜的構成過程中，基片一直遭到高能粒子的炮擊，非常清潔。

真空卷繞鍍膜

真空卷繞鍍膜是一種使用物理氣相堆積的方法在柔性基體上接連鍍膜的技能，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性特點。