pvd
真空鍍膜能直接鍍在不銹鋼,鈦、鎢鋼等材質上,可是對鐵、鋅合金、銅等壓鑄件真空鍍膜前應先舉辦化學電鍍鉻,然后才適合鍍PVD。
PVD鍍膜技能是一種真正可以或許得到微米級鍍層,并且無污染的環保型外貌處理懲罰要優先,它可以或許制備各類單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜(TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。
PVD鍍膜膜層的厚度為微米級,厚度較薄,一般為0.1μm——5μm,個中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.1μm——1μm,中岳鈦金,因此可以在險些不影響工件本來尺寸的環境下提高工件外貌的各類物理機能和化學機能,并可以或許維持工件尺寸根基穩定,鍍后不須再加工。
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