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真空濺射離子鍍膜（PVD)服務商

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PVD真空鍍膜是什么

時間：2023-07-20    點擊數：

PVD真空鍍膜是一種物理氣相沉積法，是指在真空環境下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質電離，在電場的作用下，使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上面的薄膜制備技術。PVD鍍膜技術分為蒸發鍍、濺射鍍和離子鍍三種，都可稱之為PVD鍍膜。

本文網址：http://www.lyfln.com/news/630.html

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